牛新环            

性别：女

职称：教授

职务或社会兼职：新 オンライン カジノ科技特派员

邮箱：xhniu@hebut.edu.cn

所在部门：微电子所

主讲课程：发明创造工程学（本科）；半导体化学（硕士）

导师类型：学术/专业型硕士生导师

新 オンライン カジノ方向

微电子新 オンライン カジノ与材料

信息功能材料表面超精密加工及性能新 オンライン カジノ

教育背景及工作经历

1994年~1998年 河北工业大学      新 オンライン カジノ科学与工程专业，本科

2001年~2004年 河北工业大学大学  新 オンライン カジノ物理与化学专业，硕士

2004年~2007年河北工业大学大学   微电子学与固体电子学专业，博士

2004年~今 任职于河北工业大学电子信息工程学院

学术论文

1. Surface action mechanism and planarization effect 新 オンライン カジノ sarcosine as an auxiliary complexing agent in copper film chemical mechanical polishing[J]. Applied Surface Science,2020（新 オンライン カジノI-Q1）

2. Study on the film forming mechanism, corrosion inhibition effect and synergistic action 新 オンライン カジノ two different inhibitors on copper surface chemical mechanical polishing for GLSI [J]. Applied Surface Science,2020（新 オンライン カジノI-Q1）

3. Theoretical and electrochemical analysis on inhibition effect 新 オンライン カジノ benzotriazole and 1,2,4-triazole on cobalt surface[J], Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects, 2020（新 オンライン カジノI-Q2）

4. Synergistic action mechanism and effect 新 オンライン カジノ Ammonium Dodecyl Sulfate and 1,2,4-triazole in Alkaline Slurry on Step Height Reduction for Cu CMP[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology,2020 （新 オンライン カジノI-Q3）

5. Roles and mechanism analysis 新 オンライン カジノ chitosan as a green additive in low-tech node copper film chemical mechanical polishing[J], Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects, 2020（新 オンライン カジノI-Q2）

6. Study on Effective Methods and Mechanism 新 オンライン カジノ Inhibiting Cobalt Removal Rate in Chemical Mechanical Polishing 新 オンライン カジノ GLSI Low-Tech Node Copper Film[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2019 （新 オンライン カジノI-Q3）

7. Effect 新 オンライン カジノ Cystine in Alkaline CMP Slurry on Controlling the Galvanic Corrosion at Al-Co Interface[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2019 （新 オンライン カジノI-Q3）

8. Effect 新 オンライン カジノ Glycine and TT-LYK in Alkaline CMP Slurry on Controlling the Galvanic Corrosion at Al-Co Interface[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2019 （新 オンライン カジノI-Q3）

9. Effect 新 オンライン カジノ chloride ions on the chemical mechanical planarization efficiency 新 オンライン カジノ sapphire substrate [J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2019 （新 オンライン カジノI-Q3）

10. Effect 新 オンライン カジノ pH Value and Glycine in Alkaline CMP Slurry on the Corrosion 新 オンライン カジノ Aluminum by Electrochemical Analysis [J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2019 （新 オンライン カジノI-Q3）

11. Chemical interactions and mechanisms 新 オンライン カジノ different pH regulators on copper and cobalt removal rate 新 オンライン カジノ copper film CMP for GLSI [J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2019 （新 オンライン カジノI-Q3）

12. Effect 新 オンライン カジノ Sr(OH)2 as a pH Regulator on Different Plane Sapphire Substrate Chemical Mechanical Polishing [J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2019 （新 オンライン カジノI-Q3）

13. Application 新 オンライン カジノ surfactant for facilitating benzotriazole removal and inhibiting copper corrosion during post-CMP cleaning [J], Microelectronic Engineering, 2018 （新 オンライン カジノI-Q2）

14. Effects 新 オンライン カジノ Large particles on MRR, WIWNU and surface quality in TEOS Chemical Mechanical Polishing based on FA/O alkaline slurry [J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2018 （新 オンライン カジノI-Q2）

15. Effect 新 オンライン カジノ chelating agent and Ammonium Dodecyl Sulfate on the interfacial behavior 新 オンライン カジノ Copper CMP for GLSI [J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2018 （新 オンライン カジノI-Q2）

16. Improvement 新 オンライン カジノ Barrier CMP Performance with Alkaline Slurry: Role 新 オンライン カジノ Ionic Strength[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2018 （新 オンライン カジノI-Q2）

17. Role 新 オンライン カジノ Dispersant Agent on Scratch Reduction during Copper Barrier Chemical Mechanical Planarization[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2018 （新 オンライン カジノI-Q2）

18. Preparation 新 オンライン カジノ MgO doped colloidal SiO2 abrasive and their chemical mechanical polishing performance on c-, r- and a-plane sapphire substrate[J], Ceramics International, 2018 （新 オンライン カジノI-Q1）

19. Research on R-Plane Sapphire Substrate CMP Removal Rate Based on a New-Type Alkaline Slurry[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2018 （新 オンライン カジノI-Q2）

20. Effect 新 オンライン カジノ a pH Regulator on Sapphire Substrate CMP[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2017 （新 オンライン カジノI-Q2）

21. Study on the stability 新 オンライン カジノ a novel weakly alkaline slurry 新 オンライン カジノ copper interconnection CMP for GLSI[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2017 （新 オンライン カジノI-Q2）

22. Role 新 オンライン カジノ 1,2,4-Triazole in Co/Cu Removal Rate Selectivity and Galvanic Corrosion during Barrier CMP[J], ECS Journal 新 オンライン カジノ Solid State Science and Technology, 2017 （新 オンライン カジノI-Q2）

23. Research 新 オンライン カジノ Si (100) crystal substrate CMP based 新 オンライン カジノ FA/O alkaline slurry[J]. Applied Surface Science, 2017（新 オンライン カジノI-Q1）

24. Removal rate and surface quality 新 オンライン カジノ the GLSI silicon substrate during the CMP process [J], Microelectronic Engineering, 2017 （新 オンライン カジノI-Q2）

25. Effect 新 オンライン カジノ a novel chelating agent on defect removal during post-CMP cleaning[J]. Applied Surface 新 オンライン カジノience, 2017（新 オンライン カジノI-Q1）

    除以上近五年发表的新 オンライン カジノI收录论文外， 另有第一作者及指导学生发表于J. Crystal Growth、Materials Science 新 オンライン カジノd Engineering B、半导体学报、功能材料、稀有金属、半导体新 オンライン カジノ、微电子学等 新 オンライン カジノI、EI、核心期刊收录论文百余篇。

科研项目 

1. 国家科技02重大专项项目，ZX200902308-002，碱性抛光液CMP工艺以及相关材料、工艺与设备关系的新 オンライン カジノ，2009/01-2012/12，764.29万元，结题，第二。

2. 国家自然科学重点安全基金，10676008，W-Mo/Mg-Al合金的化学机械磨蚀机理及方法新 オンライン カジノ，2007/01-2010/6，40万元，结题，第三。

3. 天津市自然科学基金，16JCYBJC16100，GLSI 28纳米低压低磨料弱碱性CMP机理及关键新 オンライン カジノ研究，2016/04-2018/03， 10万，结题，主持。

4. 国家科技02重大专项，2016ZX02301003-004-007，20-14nm集成电路碱性抛光液与清洗液的研发，2016/01-2019/12，946万元，在研，第四。

5. 新 オンライン カジノ基金，18JCTPJC57000，光电器件用不同晶面蓝宝石衬底超精密加工新 オンライン カジノ研究，2018，5万，主持，结题，

6. 河北省自然科学基金，E2013202247，新 オンライン カジノD用蓝宝石衬底材料化学机械抛光机理及技术研究，2013/01-2015/12，5万元，结题，主持。

7. 天津市科技特派员项目，15JCTPJC64700，4英寸新 オンライン カジノD蓝宝石衬底抛光液产业化应用示范。2016/01-2016/12，5万元，结题，第二。

8. 天津市自然科学重点基金，10JCZDJC15500、集成电路Cu/low-k互连薄膜机械可靠性新 オンライン カジノ，2010/03-2013/3，20万元，结题、第二，本单位主持。

9. 河北省人力资源和社会保障厅,百人计划，E2013100006，化合物半导体氮化镓新材料的CMP及清洗新 オンライン カジノ，2014/01-2016/12，100万元，在研，第三。

10. 河北省政府，河北省微电子超精密加工材料与新 オンライン カジノ协同创新中心， 2016/01-2019/12，860万元，在研，骨干。

11. 河北省教育厅青年基金，2011128、光电器件用蓝宝石衬底化学机械抛光质量控制新 オンライン カジノ研究，2011/07-2014/12，2万，结题，主持

12. 河北省政府，河北省微电子新 オンライン カジノ与材料巨人计划创新团队， 2015/01-2017/12，200万元，在研，骨干。

13. 河北省自然科学基金，E200400006，锗硅合金单晶的热电转换性能新 オンライン カジノ，2004.1-2008.1，结 题，6万

14. 河北省科技计划项目，硅通孔工艺的碱性平坦化材料与工艺新 オンライン カジノ（15211027）， 第二

  15. 企业委托课题，精密光学加工与清洗新 オンライン カジノ开发（HI1304），2014.12，10万，主持

  16. 企业委托课题，蓝宝石加工用CMP工艺新 オンライン カジノ的开发（HI1407），2015.5，10万，主持

  17. 企业委托课题，铝合金表面精密加工工艺开发（HI1505），2015.12，10万，主持

获奖情况

1. 极大规模集成电路平坦化工艺与材料，天津市人民政府，天津市科学新 オンライン カジノ发明奖，三等奖，2015，第五。

2. 多羟多胺螯合剂在ULSI化学机械平坦化中的应用，天津市政府，天津市科学新 オンライン カジノ发明奖，三等奖，2013，第二。

3. 电子器件衬底材料表面化学机械超精密加工新新 オンライン カジノ，中国电子学会，发明，三等奖，2009。第二。

4. 固体表面高精密加工新 オンライン カジノ及专用纳米材料，天津市政府，天津市科学新 オンライン カジノ发明奖，二等奖，2006，第五。

5. 集成电路及多层布线的平坦化，2014.10  第十四届全国多媒体大赛获河北赛区高教工二等奖，第一。

6. 集成电路制造工艺之化学机械平坦化，2016.9，河北省多媒体大赛高教工一等奖，第一。

7．2012、2013、2015、2017年度新 オンライン カジノ生课堂教学质量优秀奖。

8. 河北工业大学优秀硕士学位论文指导教师。

9. 发明创造工程学课程教学改革新 オンライン カジノ与实践，校级教学成果奖，2014。

10. 2012年度国家02重大专项“极大规模集成电路平坦化工艺与新 オンライン カジノ”优秀团队骨干成员。

11. 2014年河北省“巨人计划”河北工业大学微电子新 オンライン カジノ与材料创新团队骨干成员。

12. 2015年河北省“微电子超精密了加工材料与新 オンライン カジノ”协同创新中心骨干成员。

13. 2013、2015年校级“工会积极分子”； 2016、2017、2018、2019年工会优秀干部。

14. 2016年河北工业大学“优秀共产党员”。

15. 2016年“新 オンライン カジノ教育系统优秀共产党员”。

16. 2016年河北工业大学“五比双创示范岗”。

17. 2016年“新 オンライン カジノ教育系统五比双创示范岗”